碳化硅反应器反应管路无金属接触，耐腐蚀性能，独特的反应器设计，传质和传热效率，温度范围从-25℃到200℃，可视性强，易于清洁，可用于光反应。

　　反应器高效工艺开发和中试生产平台，可以串联多达5个反应模块，多达10个可以独立控制的LED阵列，反应器开发的工艺。反应器芯片为无压烧结碳化硅材质，具有强的耐化学腐蚀性和导热率，可处理包括KOH等强腐蚀性物质，其高导热率决定了其具有换热效率，改善了反应过程的传热条件，加快了反应效率。反应器外部支架为不锈钢材质，带有特制隔热保温层，可有利于节能降耗以及更精准的控温。

　　特创碳化硅反应器产品特点

　　1、反应器芯片原材料为亚微米级高纯碳化硅，纯度99.5%以上，采用无压烧结工艺经2150度烧制，并经精密加工而成；

　　2、单组反应器单元为多片式结构，采用高温键合成一个整体，彻底消除了泄露风险，芯片自身带有温度探头，可灵活监控反应温度；

　　3、反应器芯片采用“反应/换热一体式”设计，一面是反应通道，一面是换热通道，两种功能集成在一块碳化硅板上，提高了换热效率；

　　4、换热系统的冷热媒可直接注入反应器芯片的换热通道内，通道采用流线型设计并安装有扰流扩散器，既满足了媒介的快速流动，不会产生明显压降，又可保证媒介与芯片本体充分接触，有利于精准控温；

　　5、反应器模块单元带有特制的保温隔热层，使用特殊保温材料将碳化硅反应器芯片充分包裹，碳化硅芯片与外部金属部分无接触，保温隔热性能大大提高，有利于节能降耗，同时增加了设备使用中的安全性。